Ontrak DSS200 2 系列

OnTrak DSS 200 Series 2 wafer cleaning system
OnTrak DSS 200 Series 2 wafer cleaning system OnTrak Series 2 wafer cleaning system for wafers from 100mm to 200mm

OnTrak DSS 200 Series 2 双面 PVA 洗涤器在清除浆料颗粒方面的清洁效果经过生产验证。 根据不同的应用,每小时可处理 45-65 个晶圆,这使得 DSS-200 Series 2 成为用于 100 毫米到 200 毫米晶圆的最具成本效益的晶圆清洗系统。

DSS-200 Series 2 可以满足各种清洗工艺应用的需要,例如

  • CMP 后清洗:氧化物、多晶硅、氮化物、钨、铝和铜
  • 通用清洗:CVD 前和 CVD 后氧化物、后金属化、表面形貌、沟槽
  • 硅清洁:原硅、硅回收、晶圆厂监控器回收

标准配置包括

  • 200 毫米人体工程学装载台
  • 双面 PVA 擦洗
  • 双刷盒
  • 深色塑料盖保护感光晶片
  • 氨气分配
  • 红外辅助旋转干燥站
  • 机器人卸载
  • 垂直卸载站
  • 触摸屏控制

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