轴表面

Surface CMP polishing semiconductor wafers
Surface CMP polishing semiconductor wafers Surface to planarize wafers from 100mm to 200mm Axus Surface wafer polisher Surface fully automated planarization tool Surface Fully automated precision polishing

Axus Surface 晶圆抛光机是用于半导体晶圆 CMP 抛光的全自动精密工具,可实现图案化/器件晶圆的平整度、均匀性和平面化。 Surface 以 IPEC 472 机箱为基础,具有自动晶圆处理功能,能够进行两层、两步抛光处理,以最大限度地提高晶圆吞吐能力和质量。 Surface 专用于对 100 毫米到 200 毫米的晶片进行平面化处理,非常适合需要可重复性以及操作和加工灵活性的材料抛光应用。 Surface 标准配置有用于载体控制的 4 通气动系统,并可安装 200 毫米。 Surface 有多种膜载体可供选择,使其成为适用于各种基底的多功能抛光工具。 该工具拥有一长串翻新工具所不具备的选件,例如:最终焊盘调节系统、高压压盘冲洗、透明晶片感应、改进的薄基板晶片处理以及电机和光学端点检测系统。

标准配置包括

  • 全自动精密抛光
  • 用于抛光后抛光的双压板工艺
  • 多种泥浆分配
  • 原位垫调节器
  • 中、低 pH 值泥浆的材料兼容性 (1-12)
  • 下压力达 750 磅
  • 可控晶片背压
  • 抛光头清洁站
  • 终端能力外部接口
  • 温控压盘

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